单选题

无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起（）后，将不再受到保护。

A10年

B15年

C5年

D20年

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正确答案：A （备注：此答案有误）

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单选题

无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起（）后，将不再受到保护。

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材料题

2018年3月24日，都灵公司完成集成电路布图设计创作，并于2018年7月5日首次投入商业利用。后于次年2月21日申请集成电路布图设计保护，并于2019年3月26日获准登记。2019年11月8日，都灵公司发现新凡公司生产、销售的XF258芯片中所含的集成电路布图设计与其于2019年3月26日获准登记的集成电路布图设计相同，并诉至人民法院。若都灵公司于2018年7月5日首次投入商业利用后，迟迟不予申请集成电路布图设计保护，直至2021年7月5日方才向国家知识产权局提出申请，关于其是否符合被予以受理、审查条件的说法，正确的是（）。

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